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2024年4月12日 星期五

#128 PCDA - Photo area CDA

 "Photo area CDA" 中的 CDA 可能是指 "Clean Dry Air",即乾淨乾燥空氣。這通常是指一種高純度、低含水量和低污染的空氣,通常用於敏感的應用場景,如半導體製造、光學製造等。


"Photo area" 可能指的是光學製造過程中的特定區域,其中對空氣的乾淨度和乾燥度要求特別高。在光學製造中,空氣中的微小污染物和水分都可能對製造過程和產品質量產生不良影響,因此需要使用高純度、乾淨乾燥的空氣。


因此,"Photo area CDA" 可能指的是用於光學製造中特定區域的乾淨乾燥空氣系統,以確保製造過程中的空氣品質符合要求。

2024年4月11日 星期四

#127 CDA的露點要求

 CDA(Clean Dry Air)是一種高純度、乾燥和無污染的氣體,通常用於許多敏感的工業應用,如半導體製造和實驗室研究。對於CDA的露點要求通常相當嚴格,因為即使微小的水分含量也可能對設備和產品造成損壞或污染。


一般來說,CDA的露點要求通常在 -40°C 至 -80°C 之間,這意味著氣體冷卻到這些溫度時,水分不得凝結或冷凝。這樣可以確保氣體足夠乾燥,適用於各種敏感的應用場景。然而,實際的露點要求可能會根據特定的應用和產業標準而有所不同,有些應用可能需要更嚴格的露點要求。

2024年4月10日 星期三

#126 工業氣體的露點要求重要性

 氣體的露點是指當氣體冷卻至一定溫度時,其中所含水分會凝結成水或凝露的溫度。這一指標在氣體工業中非常重要,因為水分對許多工業過程和設備都具有潛在的影響。以下是為什麼要求氣體露點的幾個主要原因:


1. **保護設備**:在某些設備中,如果氣體中的水分凝結或冷凝,可能會導致設備的腐蝕、損壞或功能障礙。確保氣體的露點低於操作設備的溫度可以保護設備免受水分的影響。


2. **保持生產過程穩定**:在許多工業過程中,如化工、製藥和半導體製造,需要使用乾燥的氣體。過高的露點可能導致產品質量下降、製程效率降低或設備故障,因此必須控制氣體中的水分含量。


3. **避免腐蝕和污染**:水分存在可能會引起管道、儀表和設備的腐蝕,並且可能導致產品污染。通過保持氣體的露點在一定水平以下,可以降低這些風險。


4. **確保產品質量**:在某些行業中,如食品和飲料生產,氣體中的水分可能會影響最終產品的品質和安全。因此,需要將氣體的露點控制在安全水平以保證產品的質量。


總之,要求氣體露點的主要目的是確保生產過程的穩定性、設備的保護以及產品的質量和安全性。

2024年4月9日 星期二

#125 Flare 燃燒裝置

 "Flare - 燃燒裝置",通常用於將未燃燒的氣體或液體進行燃燒處理,從而減少對環境的污染或安全隱患。在工業領域中,燃燒裝置通常用於處理化工廠、石油化工廠等生產過程中產生的過剩氣體或废气。

2024年4月8日 星期一

#124 丙類危險性工作場所

 三、丙類:指蒸汽鍋爐之傳熱面積在五百平方公尺以上,或高壓氣體類壓力容器一日之冷凍能力在一百五十公噸以上或處理能力符合下列規定之一者:

(一)一千立方公尺以上之氧氣、有毒性及可燃性高壓氣體。
(二)五千立方公尺以上之前款以外之高壓氣體。

#310 Entegris 氮氣純化器

  Entegris 氮氣純化器型號 GPS8-MGT10K-N-1086 ,屬於 MegaTorr® PS8 系列 的自動再生型氮氣純化器,專為半導體、資料儲存、平面顯示器、LED 和太陽能等高純度氣體應用設計。 ​ puregasproducts.com +5 安捷利斯 +...